NRF-TCC : 한국연구재단 기술사업화센터

요약 본 발명의 일 실시예는 표면 처리된 양자점 제조방법을 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 금속 플루오린화물을 통해 양자점 표면에 존재하는 산화물 및 표면 결함을 제거하여 보다 안정적인 표면 처리된 양자점을 제조할 수 있다.

대표 청구항

대표 도면

전략기술 분류 양자
Quantum
출원번호 1020240044724 KIPRIS
출원일 2024-04-02
공개번호 1020250146769
공개일 2025-10-13
등록번호 1028713030000
등록일 2025-10-10
우선권 번호
우선권 국가
우선권 주장일
현재 상태
현재 권리자
IPC 코드 C09K 11/02|C09K 11/88|C09K 11/62|H10F 30/20|H10F 77/14|H10F 77/20